Beschreibung: 

                                  Hochchemisch aktives Ceriumoxid CeO₂ Selten-Erd-Pulver. Feines Schleifmittel für Hochglanzpolitur von Optiklinsen, 

                                  Brillengläsern, Handydeckglas, Flachglas, Kristall und Halbleiterwafern.

             Anwendung: 

                                  1. Feinpolitur von Präzisionsoptiklinsen in Optikfabriken

                                  2. Schleifen und Hochglanzveredelung von Brillengläsern

                                  3. Polieren von Handydeckglas und Flachdisplayglas

                                  4. Oberflächenaufwertung von Kristallhandwerk

                                  5. Präzisionsfeinschliff von Halbleiter-Siliziumwafern

              Vorteile:

                                  1. Hohe chemische Aktivität für schnellen Polierfortschritt

                                  2. Kratzerfreie spiegelglatte Glasoberflächen nach Bearbeitung

                                  3. Gleichmäßige Korngröße mit konstanter Schleifleistung

                                  4. Geeignet für Glas, Kristall und Halbleiterwafer

                                  5. Wenig Rückstände, leicht zu reinigen nach dem Polieren

                     FAQ:

                                1. F: Aus welchem Stoff besteht das Polierpulver?

                                   A: Hochreines Selten-Erd-Material Ceriumoxid CeO₂.

                                2. F: Welche Materialien lassen sich damit polieren?

                                   A: Optiklinsen, Brillengläser, Handyglas, Flachglas, Kristall, Halbleiterwafer.

                                3. F: Vorteil gegenüber gewöhnlichen Schleifpulvern?

                                   A: Höhere chemische Aktivität, schnellerer Abtrag und perfekter Hochglanz.